Bossier Plot (CD vs Focus)
UNIT: nm / nm
Resist Profile (Cross-section)
แสดงรูปร่างของสาร Photoresist หลังจากกระบวนการพัฒนา (Development)
Current CD
45.0 nm
CD Error
0.0%
Sidewall Angle
88.5°
Exposure Status
OPTIMAL